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[IT뉴스]“ASML EUV 공급 모자란다”… 삼성전자·SK하이닉스 장비 확보 경쟁
온카뱅크관리자
조회:
10
2026-11-08 06:07:26
<div id="layerTranslateNotice" style="display:none;"></div> <strong class="summary_view" data-translation="true">양사 각각 10조~20조원대 투입… 내년부터 순차 인도<br>10나노급 6세대 D램 등에 사용… 생산 안정화<br>한미반도체 등 후공정 장비 업체도 2~3년치 주문 쌓여</strong> <div class="article_view" data-translation-body="true" data-tiara-layer="article_body" data-tiara-action-name="본문이미지확대_클릭"> <section dmcf-sid="f4ekxbQ9gs"> <figure class="figure_frm origin_fig" contents-hash="e56a563c513f7e1c4dd146ab754c512af8b81bd37cb6ca6eddd08aba0b8c1d22" dmcf-pid="48dEMKx2am" dmcf-ptype="figure"> <p class="link_figure"><img alt="삼성전자 평택캠퍼스(왼쪽)와 SK하이닉스 이천 M16 공장 전경. /각 사 제공" class="thumb_g_article" data-org-src="https://t1.daumcdn.net/news/202611/08/chosunbiz/20261108060201528lubv.jpg" data-org-width="1750" dmcf-mid="VArYEikLoO" dmcf-mtype="image" height="auto" src="https://img3.daumcdn.net/thumb/R658x0.q70/?fname=https://t1.daumcdn.net/news/202611/08/chosunbiz/20261108060201528lubv.jpg" width="658"></p> <figcaption class="txt_caption default_figure"> 삼성전자 평택캠퍼스(왼쪽)와 SK하이닉스 이천 M16 공장 전경. /각 사 제공 </figcaption> </figure> <p contents-hash="fdf42ffdce3febd7fe1eab43a85956865adbbe5a3633aff2236a816e8ef58ee7" dmcf-pid="86JDR9MVgr" dmcf-ptype="general">삼성전자와 SK하이닉스가 극자외선(EUV) 노광장비를 경쟁적으로 발주하며 각각 10조~20조원대를 투입하고 있는 것으로 알려졌다. ASML이 2027~2028년 EUV 장비 공급 부족을 공식화하면서 장비 인도 순번(슬롯) 확보가 첨단 D램 증설의 관건으로 떠오른 상황이다.</p> <p contents-hash="5d8a27e5c65325317c9eeaf4da5f01102730b5d2a36060bd89dd65ba3c63c75f" dmcf-pid="6Piwe2RfNw" dmcf-ptype="general">8일 업계에 따르면 양사는 내년부터 ASML로부터 EUV 장비를 순차적으로 인도받을 예정이다. SK하이닉스는 지난 3월 약 11조9500억원 규모 EUV를 구매한다고 공시했으며 인도 시한은 2027년 12월 31일이다. 공급 부족에 따른 핵심 장비 납기가 종전의 최대 2배로 길어지면서 두 회사는 발주 시점을 앞당기는 방안도 검토하고 있다. 이후 상황에 따라 추가 발주도 예정돼 있어 설비투자 금액이 더 늘어날 가능성이 높다.</p> <p contents-hash="6649c6ea743267036ace3b64bd78f14f34d48882c2c09087d59beb97c49c080f" dmcf-pid="PQnrdVe4aD" dmcf-ptype="general">삼성전자의 경우 평택 투자와 맞물려 발주를 늘리고 있다. 삼성전자는 지난해 11월 평택캠퍼스 5라인(P5)을 포함해 5년간 450조원 규모 국내 투자 계획을 발표하고 2028년 가동을 목표로 제시했다. P5는 팹 1개당 투자액이 60조원 이상으로 알려졌다. 업계는 P5 1단계 클린룸이 내년 상반기 마무리되면 장비 반입이 시작될 것으로 예상하고 있으며, 삼성전자가 이 라인에 투입할 노광장비 발주를 이미 진행한 것으로 알려졌다.</p> <p contents-hash="40e8a0f855e8f0894c093d4fc9b09b0d38b0919326a235f31d5ce96e0a7acee1" dmcf-pid="QxLmJfd8jE" dmcf-ptype="general">EUV 노광장비는 13.5나노미터(nm) 파장의 빛으로 회로를 새기는 장비로, 패턴을 여러 번 나눠 찍던 다중 패터닝 공정을 줄여 정밀도와 수율을 높인다. 10나노급 6세대(1c) 등 첨단 D램은 회로 간격이 좁아져 EUV를 쓰는 공정 층이 늘어나는 추세다. 시장조사업체 트렌드포스(TrendForce)는 SK하이닉스가 1c D램에 EUV를 5개 층 이상 적용할 계획이며 이전 세대보다 2개 층이 늘어난다고 전했다.</p> <p contents-hash="1df1fd976c8fe0625b6072177117c72baafb3a32800a286178e7de22ff8ed883" dmcf-pid="xMosi4J6ck" dmcf-ptype="general">앞서 ASML은 올 3분기 실적 발표에서 현재 계획한 2027~2028년 공급이 고객 수요를 충족하지 못할 것이라고 밝혔다. 올해 EUV 출하는 약 65대로 지난해(44대)보다 50% 가까이 늘지만, 2027년 생산능력을 30% 늘리고 2028년 추가 30% 증설을 검토하는 것으로도 부족하다는 입장이다. 핵심 제품 가격 인상 효과는 내년부터 반영돼 2028년 온전히 나타날 전망이며, 올 3분기 시스템 매출에서 메모리 비중은 46%였다.</p> <p contents-hash="fa203a2bf7df9ccb98e70374b38538e3f5d73ef1727805dc97bb95932b1fba76" dmcf-pid="y8dEMKx2cc" dmcf-ptype="general">EUV 장비에 기반한 차세대 D램 생산도 어느 정도 안정화된 상태다. 삼성전자는 지난 2020년 3월 업계 최초로 EUV 적용 D램 모듈을 출하하는 등 관련 노하우가 쌓여 있고, EUV 장비 보유량도 메모리 업계 최대 수준인 것으로 알려졌다. SK하이닉스는 2021년 2월 이천 M16 팹에 첫 EUV 장비를 설치했으며, 지난해 9월에는 최신 하이 NA EUV 양산용 장비를 업계 최초로 반입했다. 삼성전자는 지난 9월 8일 ASML과 협력 확대를 발표하며 2028년까지 하이 NA EUV를 D램 양산에 도입하겠다고 밝혔다.</p> <p contents-hash="5437a2ffd4b485c7344fe2947c64370a94b19f4493426b087581d9a56d0473c1" dmcf-pid="W6JDR9MVgA" dmcf-ptype="general">한편 후공정 장비 업계에도 2~3년치 주문이 밀려들고 있다. 업계에 따르면 한미반도체와 엠코 등은 물량 발주가 거의 끝난 것으로 알려졌다. 이들은 열압착(TC) 본더를 비롯해 AI 데이터센터에 필수적인 공정 장비 생산 여력을 늘리고 있다. 반도체 업계 관계자는 “AI 데이터센터에 탑재되는 칩의 경우 고용량, 고성능을 위해 첨단 전공정뿐만 아니라 단일 칩을 여러 가지 방식으로 묶고 연결하는 후공정의 중요성이 더 커졌다”며 “한미반도체, 엠코 등도 전공정 기업의 호황과 함께 엮일 수밖에 없는 생태계 구조가 형성되고 있다”고 설명했다.</p> <p contents-hash="596c3e41b532b57a72a8b349ea88e2e7731e989db4a85faf56a714c3e9be1c73" dmcf-pid="YPiwe2Rfgj" dmcf-ptype="general">- Copyright ⓒ 조선비즈 & Chosun.com -</p> </section> </div> <p class="" data-translation="true">Copyright © 조선비즈. 무단전재 및 재배포 금지.</p>
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