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[IT뉴스]SK하이닉스, 日 의존 EUV PR 국산화 추진…동진쎄미켐과 협력

온카뱅크관리자

2025-12-07 15:27:29

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        <div class="article_view" data-translation-body="true" data-tiara-layer="article_body" data-tiara-action-name="본문이미지확대_클릭"> 
         <section dmcf-sid="9VGh5yCErs">
          <figure class="figure_frm origin_fig" contents-hash="50b925aa57f858d5475019288b6718b68322f252ba58539e1005d5153f730bda" dmcf-pid="2fHl1WhDmm" dmcf-ptype="figure">
           <p class="link_figure"><img alt="EUV PR은 EUV 노광장비로 웨이퍼에 반도체 미세회로를 새겨넣을 때 필요한 소재다. (사진=ASML)" class="thumb_g_article" data-org-src="https://t1.daumcdn.net/news/202512/07/etimesi/20251207152148148cuop.png" data-org-width="700" dmcf-mid="Ki6bMfB3DO" dmcf-mtype="image" height="auto" src="https://img2.daumcdn.net/thumb/R658x0.q70/?fname=https://t1.daumcdn.net/news/202512/07/etimesi/20251207152148148cuop.png" width="658"></p>
           <figcaption class="txt_caption default_figure">
            EUV PR은 EUV 노광장비로 웨이퍼에 반도체 미세회로를 새겨넣을 때 필요한 소재다. (사진=ASML)
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          <p contents-hash="eede53d8c76f41b5c177e38d1ad78f51a626d7a474f9236dd84cd115e2d33f86" dmcf-pid="V4XStYlwOr" dmcf-ptype="general">SK하이닉스가 일본이 장악한 극자외선(EUV) 포토레지스트(PR) 국산화에 착수했다. 첨단 반도체 필수 소재 공급망을 강화하는 동시에 반도체 제조 경쟁력 향상을 위해서다.</p>
          <p contents-hash="a805dbdd9cf7943a19cf23807f3947066440b87b0ac8e864c559703c2eb9a9e1" dmcf-pid="f8ZvFGSrrw" dmcf-ptype="general">7일 업계에 따르면 SK하이닉스는 동진쎄미켐과 협력해 고성능 EUV PR 개발에 착수한 것으로 파악됐다. 그동안 일본 JSR과 도쿄오카공업(TOK) 등이 공급하던 EUV PR을 대체하는 것을 넘어, 그 이상 성능을 내는 소재 개발이 목표다.</p>
          <p contents-hash="ee4880828626f94175224cacdff71f8cef433e235c579c010d51cf55d999709c" dmcf-pid="465T3HvmED" dmcf-ptype="general">이 사안에 정통한 관계자는 “일본 제품보다 더 좋은 성능을 낼 수 있는 소재를 필요로 한다”면서 “구체적으로 생산성 향상을 위한 PR 감도 개선을 요구한 것으로 안다”고 말했다.</p>
          <p contents-hash="35013f44944ef7f7e15651621207405452206030f6beb40d6c95b6798f9ba960" dmcf-pid="8P1y0XTsEE" dmcf-ptype="general">SK하이닉스는 2023년 계열사 SK머티리얼즈 퍼포먼스를 통해 EUV PR을 국산화한 바 있다. 하지만 이 때 만든 제품은 저사양으로 알려졌다. 핵심 반도체 레이어에 사용하는 고성능 PR은 그간 일본에 100% 의존해왔다.</p>
          <p contents-hash="c142807b4f740deaee7de02768944583097bd65fea1a5f0568707dd654af5bcf" dmcf-pid="6QtWpZyOmk" dmcf-ptype="general">PR은 노광 공정에서 사용되는 재료다. 웨이퍼에 빛을 조사(노광)해 반도체 미세회로를 새겨넣을 때 웨이퍼 표면에서 빛에 반응하는 물질이 PR이다. EUV는 10나노미터(㎚) 안팎 초미세 회로 구현에 필수인 노광 기술로, 네덜란드 ASML이 전 세계 유일 EUV 노광 장비를 공급하고 있다.</p>
          <p contents-hash="7b3bbe65b643dccfb06b491211ddaa86792fa190f4ab3d4ae6a513d1467159be" dmcf-pid="PxFYU5WIIc" dmcf-ptype="general">SK하이닉스가 EUV PR 개발을 추진하는 건 1대당 2000억원에 달하는 노광 장비 활용을 극대화하고 빠르게 늘어나는 D램에서의 EUV 레이어 수요에 대응하기 위해서다.</p>
          <p contents-hash="0bdce7bc2f1e6b0a26b96dea967dc40ad6b58868688291bfcafd1d04454075be" dmcf-pid="Q2YCZTIkDA" dmcf-ptype="general">반도체 업계에 따르면 PR 감도를 높이면 노광 시간이 줄어 든다. 반응 속도가 빠르기 때문에 짧은 시간에 미세 회로 구현이 가능하다. 이는 같은 장비를 쓰더라도 PR에 따라 생산능력이 달라진다는 얘기다.</p>
          <p contents-hash="e45d34d592ffadeef77ac178adfdc09fad6e37a1e6493fc0a16b1edaa6670cf1" dmcf-pid="xVGh5yCEsj" dmcf-ptype="general">또 D램에서 EUV 공정이 늘어나면서 PR 개발 필요성이 커졌다. 세대별 EUV 레이어는 10나노급 4세대(1a) 1개, 5세대(1b) 3개, 6세대(1c) 5개, 7세대(1d) 7개다. 10나노 미만 제품에서는 더 늘어날 전망이다.</p>
          <p contents-hash="cf5319969323ab20bb250b1b494fdb5d23f875668985a73daff194b3d81c6c71" dmcf-pid="yIe4nxfzmN" dmcf-ptype="general">소재 개발에는 상당 시간이 걸리는 데다, EUV PR은 진입 장벽이 높다. SK하이닉스와 동진쎄미켐의 협력이 어떤 결과를 낳을 지 예상하기 어렵다. 당연히 상용화에 성공할 경우 국내 소재 산업 경쟁력을 한 단계 끌어 올리는 계기가 될 수 있다.</p>
          <p contents-hash="d9fc416ee893359d9e86dff8316a906767980ea977477a71718d23b2922bc4e7" dmcf-pid="WCd8LM4qwa" dmcf-ptype="general">SK하이닉스 관계자는 “구체적인 개발 내용은 공개할 수 없다”면서도 “소재사를 비롯한 다양한 업체들과 생산성 개선을 위한 협력을 이어가고 있다”고 말했다.</p>
          <p contents-hash="2b5c10bcdb6b996081a52ec687c293c835b9eb63d2214bdd695cf25ba7e3fd1d" dmcf-pid="YhJ6oR8Bmg" dmcf-ptype="general">박진형 기자 jin@etnews.com</p>
         </section> 
        </div> 
        <p class="" data-translation="true">Copyright © 전자신문. 무단전재 및 재배포 금지.</p>

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