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[연예뉴스]SK하이닉스, 하이 NA EUV 양산 장비 첫 도입…“차세대 D램 활용”

온카뱅크관리자

2025-09-03 14:01:47

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        <div class="article_view" data-translation-body="true" data-tiara-layer="article_body" data-tiara-action-name="본문이미지확대_클릭"> 
         <section dmcf-sid="1JCObA3IsL">
          <figure class="figure_frm origin_fig" contents-hash="6b3f4f56ea684b489937e67dff4554f6558be8a0d9f7a6326bcb1f85042af53e" dmcf-pid="tihIKc0CDn" dmcf-ptype="figure">
           <p class="link_figure"><img alt="ASML 하이 NA EUV 'EXE:5200B' 장비. (사진=ASML)" class="thumb_g_article" data-org-src="https://t1.daumcdn.net/news/202509/03/etimesi/20250903140148882mbhi.png" data-org-width="700" dmcf-mid="5N5XRlVZso" dmcf-mtype="image" height="auto" src="https://img4.daumcdn.net/thumb/R658x0.q70/?fname=https://t1.daumcdn.net/news/202509/03/etimesi/20250903140148882mbhi.png" width="658"></p>
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            ASML 하이 NA EUV 'EXE:5200B' 장비. (사진=ASML)
           </figcaption>
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          <p contents-hash="7d6461bc148ea16c21c4a3de6bf07bad57e293ebc434139e25d3142f2728b214" dmcf-pid="FnlC9kphwi" dmcf-ptype="general">SK하이닉스가 반도체 초미세 회로 구현에 필수적인 '하이 뉴매리컬애퍼처(NA) 극자외선(EUV)' 장비를 도입했다. 하이 NA EUV는 그동안 인텔·TSMC·삼성전자 등이 고성능 시스템 반도체 칩 구현에 주로 활용한 장비인 데, SK하이닉스가 메모리 접목을 시도해 주목된다.</p>
          <p contents-hash="437749cd6490704ebf30234f42d0dad866c36df9741c1f90940cfd2fbb1d033e" dmcf-pid="3LSh2EUlrJ" dmcf-ptype="general">SK하이닉스는 3일 경기 이천 M16 반도체 공장에서 하이 NA EUV 장비 반입식을 가졌다. 네덜란드 ASML이 만든 'EXE:5200B'를 들였다.</p>
          <p contents-hash="8130f271c0cfef6cf49a1e56381f871b1f609dcb7c31511e9ee549ba17ec6081" dmcf-pid="0ovlVDuSDd" dmcf-ptype="general">반도체 제조에는 노광 장비가 필수다. 노광은 빛을 통해 웨이퍼에 회로를 그려 넣는 작업으로, 미세 회로를 구현해야 반도체 성능을 끌어 올릴 수 있다.</p>
          <p contents-hash="fde971a07d9e62ad2cbca936bfd526968ade58ebc80ab0309959ccd4351eda9a" dmcf-pid="pgTSfw7vwe" dmcf-ptype="general">하이 NA EUV는 현존하는 노광 설비 중 가장 많은 회로를 촘촘히 그릴 수 있는 장비다. 기존 EUV 장비보다 광학 기술이 40% 향상돼 전보다 1.7배 더 정밀한 회로를 형성하고, 2.9배 높은 집적도를 구현할 수 있다.</p>
          <p contents-hash="4a47a6c07d2431f48f1f7be44c7244a6a2d5c2ea7633c098405303f8c6ee8307" dmcf-pid="Uayv4rzTmR" dmcf-ptype="general">하이 NA EUV는 ASML이 전 세계 유일하게 공급하기 때문에 장비 확보가 곧 경쟁력이 되는데, SK하이닉스는 이번에 다른 반도체 회사들과 달리 양산용 설비를 들여 눈길이 쏠린다.</p>
          <p contents-hash="8a74daf86170cff4f5d206b195b9d857a2c9eb7f8066ab6d3ce8db7b9d95fd03" dmcf-pid="uNWT8mqyDM" dmcf-ptype="general">전 세계 반도체 업계에서 하이 NA EUV를 구축한 곳은 인텔·TSMC·삼성전자 등이 꼽힌다. 이중 인텔과 삼성이 반입한 설비는 'EXE:5000'이다.</p>
          <p contents-hash="0f8d333b549e6ea61498fd9944b7798f71df752d5886f7c985164964f9f753ce" dmcf-pid="7eOmqNtswx" dmcf-ptype="general">ASML에 따르면 EXE:5000은 연구개발(R&amp;D)용, EXE:5200B는 양산용으로 분류된다. SK하이닉스가 연구용이 아닌 양산용 설비를 곧바로 구매한 이유는 구체적으로 확인되지 않았지만, D램 등 메모리 생산에 빠르게 활용하겠다는 의지로 해석된다.</p>
          <p contents-hash="b3e174f1a56bdc61c6cb4919a43d98afce47fd8d24054989d0c5d59dc3d3c182" dmcf-pid="zdIsBjFOrQ" dmcf-ptype="general">또 인텔·TSMC·삼성전자가 주로 시스템 반도체에 하이 NA EUV 장비를 활용하는 것과 달리 SK하이닉스는 메모리 업체임에도 고가의 하이 NE EUV 장비를 도입한 점에서 눈길을 끈다.</p>
          <p contents-hash="9790fa734788ba243fb11e89103d2e864af9d71e33c4903f196d4550199e42b3" dmcf-pid="qJCObA3IwP" dmcf-ptype="general">SK하이닉스는 10나노미터(㎚) 이하 D램 공정에 하이 NA EUV 설비를 활용할 것으로 예상된다. 회사는 2021년 14㎚급인 1a(4세대) D램에 EUV 기술을 최초 적용한 이후 도입을 지속 확대해 왔다. 현재 1b D램을 생산하고 있으며 1c 양산 투자도 시작했다.</p>
          <p contents-hash="f67732b6ee33bc01d078d1e130e251a0a60bcf86807c41c35d535228f667a516" dmcf-pid="BihIKc0Cr6" dmcf-ptype="general">차선용 SK하이닉스 미래기술연구원장 부사장은 “급성장하는 인공지능(AI)과 차세대 컴퓨팅 시장이 요구하는 최첨단 메모리를 가장 앞선 기술로 개발해 AI 메모리 시장을 선도하겠다”고 말했다.</p>
          <p contents-hash="205c71a707827912fec4a1cc439f545be5e694a4eb624b19ce7690c177fc9f83" dmcf-pid="bnlC9kphs8" dmcf-ptype="general">이호길 기자 eagles@etnews.com</p>
         </section> 
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        <p class="" data-translation="true">Copyright © 전자신문. 무단전재 및 재배포 금지.</p>

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