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[IT뉴스]전세계 5대 밖에 없는 차세대 EUV…삼성전자, 2나노 생산성 높인다
온카뱅크관리자
조회:
51
2025-04-18 05:57:28
<div id="layerTranslateNotice" style="display:none;"></div> <strong class="summary_view" data-translation="true">High NA 장비 활용하면 특정 공정 60% 단축...High NA 보유 제조사 삼성, 인텔, TSMC 3곳뿐</strong> <div class="article_view" data-translation-body="true" data-tiara-layer="article_body" data-tiara-action-name="본문이미지확대_클릭"> <section dmcf-sid="01pSd6RutG"> <figure class="figure_frm origin_fig" contents-hash="5fc2eae78a7e2b88f8b115c1ab269110c17f80700212d8606eecdfb7f4072b69" dmcf-pid="ptUvJPe7YY" dmcf-ptype="figure"> <p class="link_figure"><img alt="삼성전자 화성 반도체 파운드리사업장 EUV(극자외선) 생산라인 /사진제공=삼성전자" class="thumb_g_article" data-org-src="https://t1.daumcdn.net/news/202504/18/moneytoday/20250418055009654feha.jpg" data-org-width="1200" dmcf-mid="3B60wNEQ1H" dmcf-mtype="image" height="auto" src="https://img2.daumcdn.net/thumb/R658x0.q70/?fname=https://t1.daumcdn.net/news/202504/18/moneytoday/20250418055009654feha.jpg" width="658"></p> <figcaption class="txt_caption default_figure"> 삼성전자 화성 반도체 파운드리사업장 EUV(극자외선) 생산라인 /사진제공=삼성전자 </figcaption> </figure> <p contents-hash="6198dddd09c74f06743ce8d495fc6f0924849f195c73a7ad4bd864d480ea5bbb" dmcf-pid="UFuTiQdzZW" dmcf-ptype="general">삼성전자가 차세대 EUV(극자외선) 장비를 활용할 경우 특정 공정 시간을 60% 단축할 수 있다는 연구 결과를 도출했다. 그만큼 반도체 생산성을 높일 수 있다는 의미로 2나노 이하의 첨단 공정에서 활용될 것으로 전망된다. </p> <p contents-hash="d84ad13adc1da2165344d201bbfe1ea270704e168cb089064ca2a025390348ab" dmcf-pid="u37ynxJqZy" dmcf-ptype="general">17일 업계에 따르면 삼성전자는 차세대 EUV 장비인 'High NA(고개구율)' 시스템을 테스트하는 과정에서 특정 공정에 걸리는 시간(cycle time)을 60%가량 줄였다. EUV 공정은 웨이퍼 위에 회로 패턴을 새겨 넣는 노광 작업에서 극자외선 파장을 사용하는 방식을 뜻한다. </p> <p contents-hash="b68a4b2aaa9aaecec991a7699da0fa18df71529daeca1e4bc4c733e56967a099" dmcf-pid="70zWLMiBHT" dmcf-ptype="general">인텔도 High NA를 이용하면 특정 공정을 40단계에서 10단계로 개선할 수 있다고 테스트 결과를 밝혔다. ASML은 전일 열린 1분기 컨퍼런스콜에서 이례적으로 삼성전자와 인텔 등 고객사 이름을 직접 거론하면서 High NA의 성과를 발표했다. 새 장비 도입에 대한 불안감이 크게 해소됐다는 평가다. </p> <p contents-hash="b7b492ecaa72f315bb83edced76a796d28fcedfcb125e54021386767a864f00a" dmcf-pid="zpqYoRnbXv" dmcf-ptype="general">반도체 성능향상을 위해서는 수십억개의 초미세 회로를 정확하게 그려야 하는데 기존에는 한 번에 미세한 회로 구현이 어려워 패턴을 나눠서 그렸다. 하지만 ASML이 개발한 High NA는 높은 해상도를 바탕으로 한 번에 미세한 패턴을 생성할 수 있는 장점이 있다. 트랜지스터 밀도도 2.9배 높일 수 있다. 노광 작업에 필요한 시간과 비용을 크게 줄일 수 있는 셈이다.</p> <p contents-hash="ca29ab6768aafd6d62ab58407fd87336680baa94c5b2768c58ae9216c99d6bd8" dmcf-pid="qUBGgeLKHS" dmcf-ptype="general">특히 더 세밀한 작업이 필요한 2나노 이하의 첨단 공정에서 High NA는 핵심 장비 중 하나로 꼽힌다. 삼성전자는 올해 2나노, 2027년 1.4나노 공정을 본격 도입할 계획으로 이 과정에서 High NA가 중요한 역할을 할 것으로 예상된다. TSMC도 2027년 양산 예정인 1.4나노 공정부터 High NA를 적용할 것으로 알려졌다. </p> <p contents-hash="f80c4e38b93c08d97d15c2f920ec0a5752bb495bf4115b1f173a25c8b182071a" dmcf-pid="BG1OQ26FGl" dmcf-ptype="general">ASML은 High NA의 첫 번째 버전인 EXE:5000을 총 5대만 제작했고, 이 중 1대가 올해 1분기 삼성전자에 인도된 것으로 전해진다. EXE:5000을 공급받은 반도체 제조사는 인텔, TSMC, 삼성전자 3곳뿐이다. ASML은 EXE:5000의 공급을 중단하고, 향후 새로운 버전(EXE:5200)을 출시할 계획이다. </p> <p contents-hash="f49a630619a70de0038140811dc184dfae32fc233d4eee8e02ac4533088ce610" dmcf-pid="bHtIxVP3Hh" dmcf-ptype="general">현재는 새로운 노광공정의 R&D(연구개발)에 초점이 맞춰진 상태로 내년부터 새로운 버전의 High NA가 본격적인 양산에 쓰일 예정이다. EXE:5000을 공급받아 미리 생산 테스트를 진행한 삼성전자 등이 양산에서 유리할 수밖에 없다. 삼성전자는 EXE:5200도 공급 받을 계획이다. </p> <p contents-hash="4c18a2d02f2a562e7138b50aaf263ebf2897fde2d1465964b432525eac9033b1" dmcf-pid="KXFCMfQ01C" dmcf-ptype="general">장비 1대의 가격이 5000억원을 호가할 정도로 비싸고, 공급 수량에도 한계가 있기 때문에 High NA가 전체 노광 작업에 사용되기보다는 핵심 공정에 사용되는 방식으로 활용될 것으로 전망된다. 삼성전자는 EXE:5000을 공급받기 전부터 장비 활용에 필요한 포토마스크 작업 등을 연구하며 차세대 공정을 준비했다. </p> <p contents-hash="794e6de82ad80a75ea49050d4e83625b319eee8dae02feedd18884c9d0b365c2" dmcf-pid="9Z3hR4xpXI" dmcf-ptype="general">업계 관계자는 "여러 단계에 걸쳐 나눠서 그려야 하는 작업이 High NA를 이용하면 강한 빛을 이용해 한 번에 가능하다"며 "생산성 향상뿐만 아니라 공정 과정이 감소하면서 그 과정에서 발생할 수 있는 오류도 줄일 수 있기 때문에 수율 확보에도 유리한 측면이 있다"고 말했다. </p> <p contents-hash="2aca666a25cc320273a8c33fd5561d6aed7f53b7514ff17372581e76a72a18fa" dmcf-pid="250le8MU1O" dmcf-ptype="general">김남이 기자 kimnami@mt.co.kr</p> </section> </div> <p class="" data-translation="true">Copyright © 머니투데이 & mt.co.kr. 무단 전재 및 재배포, AI학습 이용 금지</p>
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